国内一区二区三区香蕉aⅴ丨a国产一区二区免费入口丨国产乱人伦偷精品视频免下载丨少妇高潮叫床在线播放丨曰本无码超乳爆乳中文字幕

恒奧德儀器紫外臭氧清洗機工作原理以及應用

工作原理

VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

應用

光清洗技術的應用范圍十分廣泛，在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業現代化的發展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業生產領域。

1、在LCD、OLED生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；

2、印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。

3、大規模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。

4、在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生。

5、在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。

6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。

9、彩色濾光片生產中，光清洗后能洗凈表面的有機污染物。

10、敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高。

11、光學玻璃經過紫外光清洗后，鍍膜質量更好。

12、樹脂透鏡光照后，能加強與防反射板的粘貼性。

13、對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導電聚酰亞胺粘合劑上的有機污染物，光清洗是十分有效的方法。